Hjem / Produkter / Foret filter / Indhold

Produkter

Modificeret PTFE foret filter

Sig farvel til problemer med metalionudvaskning af traditionel PTFE – det modificerede PTFE-forede filter opnår PPT---ionudvaskningskontrol gennem "innovativ modifikationsteknologi", der effektivt løser traditionelle foringsproblemer.

Send forespørgsel

Hurtig levering
Kvalitetssikring
24/7 kundeservice

Produkt introduktion

Modifikationsrevolution, perfekt tilpasset "Ultra-Høj renhed"!
Sig farvel til problemer med metalionudvaskning af traditionel PTFE-det modificerede PTFE-forede filter opnår PPT--ionudvaskningskontrol på niveau gennem "innovativ modifikationsteknologi", der effektivt løser traditionelle foringsproblemer.

Ultra-Pure Guardian, "Micron-Level Gatekeeper" til Semiconductor Manufacturing!
Med 0,01μm filtreringspræcision opfanger modificerede PTFE-filterelementer submikron partikler, bakterier og TOC-forurenende stoffer. Syre-alkali-resistente ekstraherbare materialer Mindre end eller lig med 0,1 ppb, og slagstyrken steg med 50 %. Som den "sidste forsvarslinje" for UPW-terminalpolering, fotoresist-spin-coating og CMP-opslæmning, opfylder den SEMI G5-standarderne, hvilket reducerer wafer-defektraten drastisk med "nul urenhedsoutput". Fra 7 nm til 3 nm processer beskytter den chipudbyttet med "ultimate renhed", hvilket eliminerer "partikelbekymringer" i halvlederfremstilling!